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华为更新“韬定律”论文,算力之道“韬滔不绝”

华为更新“韬定律”论文,算力之道“韬滔不绝”

华为更新“韬定律”v2论文,将后摩尔时代半导体演进规律从概念框架升级为可量化、可落地的完整技术体系。“韬定律”以电路时间常数τ为核心,提出“时间缩微”新范式,核心创新Logic Folding(逻辑折叠)通过齿比等概念实现单元级3D连续优化,在固定节点下带来55%晶体管密度提升和41%能效改善。论文详解麒麟2026芯片路线图(密度跃升至238MTr/mm²),并扩展至AI集群的Unified Bus、Hi-ONE、3D Folding协同方案,为后摩尔时代提供中国算力创新路径。

2026-07-07 15:20
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美国芯片学者解读华为“韬定律”:5年后或可实现等效1.4纳米技术,暴露先进芯片局限

美国芯片学者解读华为“韬定律”:5年后或可实现等效1.4纳米技术,暴露先进芯片局限

华为在IEEE国际电路与系统研讨会上发布'韬定律',预计到2031年实现等效1.4纳米制程的芯片密度,以应对摩尔定律的局限性。美国顶尖学者Andrew B. Kahng解读该定律,强调后摩尔时代需从系统价值、EDA设计和3D集成等多维度协同优化,而非仅靠晶体管缩小,为芯片产业指明新发展方向。

2026-06-05 16:30
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专访全球顶尖芯片学者IEEE会士Andrew B. Kahng:韬τ定律挑战传统半导体路线 差距小于外界想象

专访全球顶尖芯片学者IEEE会士Andrew B. Kahng:韬τ定律挑战传统半导体路线 差距小于外界想象

本文专访了全球顶尖芯片学者、IEEE会士Andrew B. Kahng,深入解读华为提出的“韬(τ)定律”。该定律被视为对传统摩尔定律的挑战,强调通过系统价值提升而非仅缩小晶体管尺寸来推动半导体发展。文章探讨了后摩尔时代的优化方向,包括全栈协同优化、3D集成和EDA技术的重要性,为行业未来提供了关键见解。

2026-06-04 17:19
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新工艺实现多层单晶硅电路的垂直集成

新工艺实现多层单晶硅电路的垂直集成

美国伊利诺伊大学研究团队开发出一种新工艺,在严格热预算限制下实现多层高性能单晶硅电路的垂直集成。该工艺采用超薄硅纳米薄膜低温转移和‘无结’晶体管设计,解决了传统制造中高温破坏下层电路的问题,成功制造出三层堆叠电路,良率高达98%,性能与标准硅器件相当。这项突破为延续摩尔定律和芯片三维集成提供了创新方向。

2026-06-02 10:16
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华为提出新定律,改变智驾芯片赛道

华为提出新定律,改变智驾芯片赛道

华为在ISCAS 2026上提出“τ定律”,挑战摩尔定律在智驾芯片领域的局限性,转向以时间延迟优化为核心。该定律通过四层框架压缩数据传输瓶颈,并设定了智驾芯片年迭代1.5倍的明确目标。结合逻辑折叠等技术,τ定律旨在提升系统整体效率,加速智能驾驶技术发展,重塑芯片竞争格局。

2026-05-29 17:34
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华为韬定律解读:芯片新周期趋势分析

华为韬定律解读:芯片新周期趋势分析

本文解读华为提出的‘韬(τ)定律’,作为后摩尔时代芯片技术的新方向。该定律将焦点从传统的几何空间缩微转向时间缩微,通过逻辑折叠等技术缩短信号传输时间,以突破摩尔定律的物理和经济极限。华为已基于此设计量产多款芯片,并预计到2031年实现高密度性能。文章探讨了韬定律是否真正的新定律,以及它如何打破‘唯制程论’,为半导体产业提供替代发展路径。

2026-05-26 10:44
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